Palavra-chave: DISPOSITIVOS MOS

IMPLANTAÇÃO DE ÍONS III-V COMPOUND SEMICONDUCTORS HIGH K DIELECTRICS MEMS PLASMA OXIDATION SILICON DIOXIDE TECNICAS DE GETTERING ELETRÔNICA BÁSICA DEPOSIÇÃO CVD RUGOSIDADE ION IMPLATANTION RTP ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA OXINITRETO DE SILÍCIO SILÍCIO ALUMINUM OXYNITRIDE EDUCATION SILÍCIO-GERMÂNIO DISPOSITIVO DE ACLOPAMENTO POR CARGAS CCD CIRCUITOS INTEGRADOS OXIDAÇÃO POR PLASMA APS LÂMPADAS DE TUNGSTÊNIO-HALOGÊNIO DIELECTRIC CONSTANT CMOS DEVICES MOS DEVICES SEMICONDUCTORS ECR-CVD ELETRODOS TIN FILMES FINOS SILICON OXYNITRIDE